Show simple item record

dc.contributor.advisorMarlianto, Eddy
dc.contributor.advisorWirjosentono, Basuki
dc.contributor.authorSiregar, Fridayuni Lestari
dc.date.accessioned2021-07-30T07:38:07Z
dc.date.available2021-07-30T07:38:07Z
dc.date.issued2010
dc.identifier.urihttp://repositori.usu.ac.id/handle/123456789/38583
dc.description.abstractElectroplating is a metal coat electrodeposition on electrode which aim to form a new surface with a new characteristics that totally different to its original metal. The metal at this experiment was copper because this metal can be easily to be formed to be coming an ornament, jewelry, or for industrial appliance purposes, etc. The metal coater at this work was gold. At this electroplating a constant voltage and current at a certain time is used with a variance in pH solution with vary from pH 4,5 to pH 6,5, this is done because the plating should be done in moderate acid in order to established a good coating. This work to a result that the optimum surface was achieved when the pH of the solution is about pH5,6 to pH 5,7, while others shows a lack perfomances.en_US
dc.description.abstractElektroplating merupakan suatu proses pelapisan logam pada elektroda yang bertujuan membentuk permukaan yang memiliki sifat yang berbeda dengan sifat logam dasarnya, logam yang dilapisi adalah logam tembaga karena mudah dibentuk menjadi perhiasan, alat-alat untuk keperluan industri dan alat-alat dekoratif lainnya. Logam pelapis yang digunakan pada penelitian ini adalah emas. Dalam pelapisan ini digunakan tegangan dan arus konstan serta waktu yang tetap dengan perubahan pada pH larutan mulai dari pH 4,5 sampai dengan ph 6,5, karena pelapisan yang terjadi adalah pada suasana larutan asam moderat. Hasil penelitian menunjukkan hasil paling baik diperoleh pada keasaman larutan pH sekitar 5,6 dan pH 5,7, sementara pada nilai pH yang lainnya memberikan hasil yang tidak optimum.en_US
dc.language.isoiden_US
dc.publisherUniversitas Sumatera Utaraen_US
dc.subjectElektroplatingen_US
dc.subjectEmasen_US
dc.subjectTebalen_US
dc.subjectLuxen_US
dc.subjectOksidasien_US
dc.subjectReduksien_US
dc.titlePengaruh Keasaman, Waktu terhadap Tebal Lapisan dan Kecerahan Permukaan pada Pelapisan Emas terhadap Tembagaen_US
dc.typeThesisen_US
dc.identifier.nimNIM087026028
dc.description.pages65 Halamanen_US
dc.description.typeTesis Magisteren_US


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record