Show simple item record

dc.contributor.advisorSembiring, Timbangen
dc.contributor.advisorSitumorang, Marhaposan
dc.contributor.advisorMotlan
dc.contributor.authorSigiro, Mula
dc.date.accessioned2021-09-17T03:36:30Z
dc.date.available2021-09-17T03:36:30Z
dc.date.issued2013
dc.identifier.urihttp://repositori.usu.ac.id/handle/123456789/43599
dc.description.abstractThin epitaxial GaAs films, with thickness varying are 350 nm, 500 nm, and 1 μ m were grown by metalorganic chemical vapour deposition (MOCVD) on Ge substrate. All sample characterized by Raman spectroscopy, Photoluminesence spectroscopy, Piezoreflectance spectroscopy, Transmittance spectroscopy, and Scanning Electron Microscope (SEM). With Raman spectroscopy analyzed the influence of carrier concentration on the Raman selection rule and only conform for GaAs with low carrier concentration. GaAs that coated AlAs produces a higher photoluminescence intensity decreases at temperatures 100K if they have high carrier concentration value and the results of all the samples showed that the temperature rise will reduce the intensity of the GaAs. All spectra of GaAs on Piezoreflectance produced two excitons feature at room temperature and three excitons feature at low temperatures. With Transmittance spectroscopy, NBE of GaAs as plar material can be maximized its value on the Ge as nonpolar by changing the miscut of Ge substrate. SEM analysis showed that high carrier concentration value does not necessarily produce high hardness materials, but rather is influenced by the thickness and the types of GaAs and its coating materials.en_US
dc.description.abstractLapisan film tipis GaAs dengan variasi ketebalan 350 nm, 500 nm, dan 1 μ m yang ditumbuhkan di atas substrat Ge dengan teknik MOCVD telah dikarakterisasi menggunakan Raman spectroscopy, Photoluminesence spectroscopy, Piezoreflectance spectroscopy, Transmittance spectroscopy, dan SEM. Dengan Raman spectroscopy dianalisis pengaruh carrier concentration terhadap Raman selection rule dan hanya memenuhi untuk GaAs yang memiliki carrier concentration rendah. GaAs yang dilapisi AlAs menghasilkan intensitas photoluminescence yang derastis menurun pada suhu 100K apabila memiliki nilai carrier concentration tinggi dan hasil dari semua sampel memperlihatkan bahwa kenaikan suhu akan menurunkan intensitas pada GaAs. Semua spektrum dari GaAs pada Piezoreflectance menghasilkan dua fitur eksiton pada suhu kamar dan tiga fitur eksiton pada suhu rendah. Dengan Transmittance spectroscopy, GaAs yang bersifat polar bisa dimaksimalkan nilai NBE nya terhadap Ge yang nonpolar yakni dengan cara mengubah miscut substrat Ge. Analisis SEM memperlihatkan bahawa nilai carrier concentration yang tinggi belum tentu menghasilkan kekerasan bahan yang tinggi, namun lebih dipengaruhi oleh ketebalan GaAs dan jenis tipe GaAs serta bahan yang melapisinya.en_US
dc.language.isoiden_US
dc.publisherUniversitas Sumatera Utaraen_US
dc.subjectFilm Tipis GaAsen_US
dc.subjectMOCVDen_US
dc.subjectSubstrate Geen_US
dc.subjectCarrier Concentrationen_US
dc.subjectKarakterisasien_US
dc.titleKarakterisasi Lapisan Film Tipis GaAs yang ditumbuhkan dengan Metode MOCVD di Atas Substrate Geen_US
dc.typeThesisen_US
dc.identifier.nimNIM108108002
dc.description.pages131 halamanen_US
dc.description.typeDisertasi Doktoren_US


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record